半導體應用
對於半導體之特殊廠房建構:
群集系統:請聯繫我們以獲得更多的細節
在線式系統:請聯繫我們以獲得更多的細節
ALD反應器:請聯繫我們以獲得更多的細節
焊合的濺鍍靶材:請聯繫我們以獲得更多的細節
在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
- 磁控濺鍍
- 熱蒸發
- 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
- 原子層沉積(ALD)
- 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
- 退火(FLA & RTP)
光學塗層應用專用的生產系統:
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在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
- 磁控濺鍍
- 熱蒸發
- 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
- 原子層沉積(ALD)
- 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
- 退火(FLA & RTP)
捲繞式鍍膜捲繞式鍍膜生產設備
捲對捲系統:請聯繫我們以獲得更多的細節
焊合的濺射靶材:請聯繫我們以獲得更多的細節
在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
- 磁控濺鍍
- 熱蒸發
- 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
- 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
- 退火(FLA & RTP)