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半導體光電產業應用
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半導體光電產業應用之特定建構3
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半導體光電產業應用之特定建構

我們的產品適用於產業和研究開發

規格與說明

半導體應用
對於半導體之特殊廠房建構:

群集系統:
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在線式系統:請聯繫我們以獲得更多的細節


ALD反應器:
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焊合的濺鍍靶材:
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在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
  • 原子層沉積(ALD)
  • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
  • 退火(FLA & RTP)





光學塗層應用

專用的生產系統:

群集系統:請聯繫我們以獲得更多的細節


在線式系統:請聯繫我們以獲得更多的細節


ALD反應器:請聯繫我們以獲得更多的細節


焊合的濺鍍靶材:請聯繫我們以獲得更多的細節


在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
  • 原子層沉積(ALD)
  • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
  • 退火(FLA & RTP)


捲繞式鍍膜
捲繞式鍍膜生產設備

捲對捲系統:請聯繫我們以獲得更多的細節


焊合的濺射靶材:請聯繫我們以獲得更多的細節


在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)
  • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)
  • 退火(FLA & RTP)

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